Программа курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия




Скачать 29.48 Kb.
НазваниеПрограмма курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия
Дата конвертации06.11.2012
Размер29.48 Kb.
ТипПрограмма курса

ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ


(магистратура, 1-2 курс, 2 или 4 семестр, 48 часов, экзамен)

Профессор Юрий Иванович Бельченко

Программа курса лекций

I. Физические основы плазменных технологий

Элементарные процессы в газоразрядной плазме

и на поверхности электродов

Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия.

Возбуждение, диссоциация, ионизация, рекомбинация.

Дрейф и диффузия.

Адсорбция и десорбция. Внедрение и отражение. Распыление.

Поверхностная ионизация.

II. Методы и оборудование плазменных технологий

Газоразрядные системы

Тлеющий разряд.

Разряды в магнитном поле (PIG, магнетрон).

Вакуумные дуги. Дуга с горячим катодом.

Дуга высокого давления.

ВЧ и СВЧ разряды

Газоразрядные устройства

Плазменные реакторы.

Электродуговые, ВЧ и СВЧ плазмотроны.

Плазменные пушки и плазменные ускорители.

Термоэмиссионные преобразователи.

Получение потоков плазмы и формирование пучков заряженных частиц

Ионные источники

Вакуумно-плазменные технологии

Модификация поверхности. Низкоэнергетичная имплантация

Нанесение покрытий и пленок.

Обработка пластин в микроэлектронике (напыление, травление).

Высокотемпературные технологии

Обработка материалов. Электрометаллургия. Плазмохимия.

Диагностика поверхности.

Электронная микроскопия. Оже-спектроскопия.

Растровый и туннельный микроскоп.

Ионная микроскопия, ВИМС

Литература


  1. Броудай И., Мерей Дж. Физические основы микротехнологии.М., Мир, 1985

  2. Ивановский Г.Ф, Петров В.И. Ионно-плазменная обработка материалов. М., Радио и связь, 1986 г.

  3. Готра З.Ю. Технология микроэлектронных устройств : справочник. М. Радио и связь.1991

  4. Данилин Б.С., Киреев В.Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М., Энергоатомиздат, 1987 г.

  5. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. М., Энергоатомиздат, 1989 г.

  6. Аброян И.А., Андронов А.Н., Титов А.И. Физические основы электронной и ионной технологии. М., Высшая школа, 1984

  7. Пархоменко В.Д. и др. Технология плазмохимических производств. Киев, Выща школа, 1991 г.

  8. Райзер Ю.П. Физика газового разряда. М.,Наука., 1987, 1992 г.

  9. Комник Ю.Ф. Физика металлических пленок. М. Атомиздат, 1979, 264 с.

  10. Кудинов В.В., Иванов В.М. Нанесение плазмой тугоплавких покрытий. М.Машиностроение,1981 г.

  11. Кудинов В.В. Плазменные покрытия. М. Наука, 1977 г., 184 с.

  12. Комаров Ф.Ф. Ионная имплантация в металлы. М., Металлургия, 1990 г.

  13. Дресвин С.В., Бобров А.А. и др. “ВЧ- и СВЧ- плазмотроны”. Новосибирск, Наука, 1992 Серия “Низкотемпературная плазма”. Том 6.

  14. Крапивина С.А. Плазмохимические технологические процессы. Л., Химия, 1981 г.

  15. Серия “Низкотемпературная плазма”. Том 3. Химия плазмы./ Полак Л.С., Синярев Г.Б. и др., Новосибирск, Наука, 1991 г.

  16. Физика и технология источников ионов. Под ред. Я.Брауна, М., Мир, 1998 г.

  17. Габович М.Д., Семашко Н.Н., Плешивцев Н.В. “Пучки ионов и атомов для УТС и технологических целей”. М., Энергоатомиздат,1986

  18. Форрестер А.Т. Интенсивные ионные пучки. М, Мир, 1992 г.

  19. Черепин В.Т., Васильев М.А. Методы и приборы для анализа поверхности материалов (справочник). Киев, Наукова думка,1982

  20. Петров Н.Н. и Аброян И.А. Диагностика поверхности с помощью ионных пучков. Л., Изд-во Ленингр. ун-та, 1977 г.

  21. Вудраф Д., Делчар Т. Современные методы исследования поверхности. М., Мир, 1989 г.

  22. Зенгуил Э. Физика поверхности. М., Мир,1990

Дополнительная литература


Книги на английском языке

  1. Roth J.R. ”Industrial plasma engineeering”. IOP Publishing Ltd, Bristol and Filadelfia, 1995 г.

  2. Liberman M., Lichtenberg A. “Principles of plasma discharges and material processing”. NY, Wiley, 1994 г

  3. Konuma M. “Film deposition by plasma techniques”. Springer-Verlag, Berlin, 1992


Обзоры

  1. F.Chen. Industrial application of low temperature plasma physics Phys. Plasmas, v.2, n.6, стр.2164 , 1995 г.

  2. N.Sakudo. Ion sources for ion implantation and ion beam modification of materials. Rew.Sci.Instruments, 65(4), стр.1284, 1994 г.

  3. G.Alton. Ion sources for accelerators in material research.

  4. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, B73, стр.221-288, 1993 г.

  5. A.Grotjohn. Ion sources for microfabrication. Rew.Sci.Instruments, 65(4), стр.1298, 1994 г.

  6. Grigoryan V.G. Ion Sources for space thrusters. Rew.Sci.Instrum., 67(3), стр.1126, 1996 г.

  7. Kaufman A.H. Broad-beam ion sources. Rew.Sci.Instrum., 61 (II), p.230-236, 1990 г.

Добавить в свой блог или на сайт

Похожие:

Программа курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия iconПрограмма: Элементарные процессы в плазме. Ионизация. Возбуждение. Рекомбинация
Пеннинговский разряд. Плазмотрон. Свч пробой газа. Газоразрядная плазма ионных источников. Плазма газовых лазеров. Создание предварительной...

Программа курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия iconПрограмма VI международной конференции студентов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук»
Секция №1 Физика: физика ускорителей, физика конденсированного состояния, физика поверхности, физические основы радиационных и плазменных...

Программа курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия iconПрограмма VII международной конференции студентов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук»
Секция №1 Физика: физика ускорителей, физика конденсированного состояния, физика поверхности, физические основы радиационных и плазменных...

Программа курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия iconРабочая учебная программа по дисциплине: Физико-химические процессы в газоразрядной плазме по направлению
Самостоятельные занятия (работа над коллективными и индивидуальными проектами, курсовые работы)

Программа курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия icon10-1 5 сентября 2006 г., Томск, Россия
«Научные основы разработки методов модификации поверхности с использованием новых электронно-ионно-плазменных технологий для повышения...

Программа курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия iconПрограмма «Плазменные процессы в приборах и установках»
Целью программы является подготовка специалистов в области исследования физики быстропротекающих плазменных процессов, и разработки...

Программа курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия iconГрешников В. А., Дробот Ю. Б. Акустическая эмиссия. Применение для испытаний материалов и изделий
Приведены результаты малоцикловых усталостных испытаний пластины с надрезом из сплава Д16Т электроконтактным методом

Программа курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия iconРабочая программа дисциплины «Физика твердого тела»
Цель курса изложить теоретические основы физики твердого тела с уклоном на физические свойства и процессы, протекающие в полупроводниковых...

Программа курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия icon1. Сложная структура атомов
Дж. Томсон – электрический разряд, термоэлектронная эмиссия, фотоэффект – электрон; 1909 г Р. Милликен – e/m; 1895 г. – В. Рентген...

Программа курса лекций I. Физические основы плазменных технологий Элементарные процессы в газоразрядной плазме и на поверхности электродов Термо-, aвто- и взрывная эмиссия. Вторичная эмиссия iconПрограмма курса лекций Общие сведения о плазме. Идеальность. Вырождение. Квазинейтральность. [1]-§ 1 3; [2]-§§1-4; [3]-§ 1 7; [4]-§57; [5]-гл.
Общие сведения о плазме. Идеальность. Вырождение. Квазинейтральность. [1]-§ 1 3; [2]-§§1-4; [3]-§ 1 7; [4]-§57; [5]-гл. 1, §1


Разместите кнопку на своём сайте:
lib.convdocs.org


База данных защищена авторским правом ©lib.convdocs.org 2012
обратиться к администрации
lib.convdocs.org
Главная страница